选择性非催化还原技术(SNCR)

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工艺说明SNCR技术(选择性非催化还原工艺)是把还原剂NH3喷入炉腾或水泥分解炉中温度为850-1100C的区域,该还原剂与烟气中的NOx进行有选择性反应生成N2和H20。将氨水(质量浓度25%-30%)通过雾化喷射系统直接喷入炉膛或水泥分

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产品描述

工艺说明

SNCR技术(选择性非催化还原工艺)是把还原剂NH3喷入炉腾或水泥分解炉中温度为850-1100C的区域,该还原剂与烟气中的NOx进行有选择性反应生成N2和H20。

将氨水(质量浓度25%-30%)通过雾化喷射系统直接喷入炉膛或水泥分解炉合适温度区域一旋风分离器(850-950C),雾化后和氨与NOX(NO、NO2等混合物)进行选择性非催化还原反应,将NOx转化成无污染的N2。当反应区温度过低时,反应效率会降低;当反应区温度过高 时,氨会直接被氧化成N2和NO。喷氨后炉内发生的化学反应有:

4NH3 + 4NO +O2-4N2 + 6H20

4NH3+6NO-5N2+6H20

8NH3+6NO2-7N2+12H20

4NH3+2NO2+02-3N2+6H20

为了提高脱NOx的效率并实现NH3的逃逸 *小化满足以下条件:在氨水喷入的位置没有火焰;在反应区域维持合适的温度范围(850-950C);在反应区域有足够的停留时间(至少1秒以上,~850C)。

工艺特点:

脱硝效率不高,一般不超过75%(理论值),实际值在70%(如提高脱硝效率则氨的利用率会较低还原剂消耗量较大,氨逃逸率高(一般在5-10PPM),易生成硫酸氢,造成空预器等设备堵塞和腐蚀。要求主机负荷和燃烧煤种比较稳定,一旦变化引起温度窗口变化(对温度的变化要求严格),脱硝效率降低较快。

工艺流程图

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